반도체제조용 원자층 표면 개질을 위한 플라즈마 표면 처리 실험 연구

项目来源

韩(略)科(略)

项目主持人

오(略)

项目受资助机构

연(略)교

立项年度

2(略)

立项时间

未(略)

项目编号

1(略)0(略)2(略)

项目级别

国(略)

研究期限

未(略) (略)

受资助金额

9(略)3(略).(略)元

学科

未(略)

学科代码

未(略)

基金类别

개(略)연(略)래(略)

关键词

未(略)

参与者

未(略)

参与机构

未(略)

项目标书摘要:연구(略)하기 위하여 1차(略)면 산화 공정의 (略)연구를 통하여 플(略)응의 기존의 물리(略)고 실험을 통하여(略)을 구체화하고자한(略)은 플라즈마 표면(略)검증 실험 단계로(略)장비 및 설비를 (略)면 산화 반응..(略)

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    (略)
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